[实用新型]一种磁控溅射台磁水平检测装置有效
| 申请号： | 201520327826.9 | 申请日： | 2015-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN204644460U | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 乔宪武;吴昊 | 申请（专利权）人： | 中国计量学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;G01R33/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种次测量装置，特别适用于金属薄膜沉积过程中，一种磁控溅射台磁水平检测装置，包括亥姆霍兹线圈、沉积台和升降台，其特征在于：所述装置包括磁感应强度探针安装在沉积台水平表面上，沉积台在升降台的作用下，位置可以移动。本实用新型有益效果：本实用新型提供一种测量装置，解决匀强磁场和沉积台平面共面的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 水平 检测 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射台磁水平检测装置，包括亥姆霍兹线圈(1)、沉积台(3)和升降台(4)，其特征在于：所述装置包括磁感应强度探针(2)安装在沉积台(3)水平表面上，沉积台(3)在升降台(4)的作用下，位置可以移动。
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