[实用新型]微球沉积样品架装置有效
| 申请号： | 201520494086.8 | 申请日： | 2015-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN204779801U | 公开（公告）日： | 2015-11-18 |
| 发明（设计）人： | 慈连鳌 | 申请（专利权）人： | 沈阳腾鳌真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/50 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110101 辽宁省沈*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种微球沉积样品架装置，具有由步进电机驱动旋转的样品盘，还具有压电陶瓷振动器，压电陶瓷振动器设于真空室中，安装于步进电机输出端的样品架上，样品盘固定在压电陶瓷振动器上；还具有水平敲击组件，设于样品架的侧边。本实用新型在样品盘上加频率控制和振动功能，这样保证样品不仅仅在转动而且还有跳动，保证沉积均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 样品 装置 | ||
【主权项】：
一种微球沉积样品架装置，具有由步进电机驱动旋转的样品盘，其特征在于：还具有压电陶瓷振动器，压电陶瓷振动器设于真空室中，安装于步进电机输出端的样品架上，样品盘固定在压电陶瓷振动器上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
