[实用新型]精密掩膜板有效
| 申请号： | 201520571698.2 | 申请日： | 2015-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN204945613U | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 范波涛;王水俊;王亚 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/50 | 分类号： | G03F1/50 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 余毅勤 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型揭示了一种精密掩膜板。在本实用新型提供的精密掩膜板中，所述精密掩膜板包括沿第一方向分布的图案区以及位于其两侧的应力释放区，所述应力释放区包括沿第一方向分布的第一应力释放单元及第二应力释放单元，所述第二应力释放单元包括多个间隙。相比现有技术，本实用新型能够使得精密掩膜板的两端由于拉伸产生的不平衡的力迅速得以扩散，从而减少皱褶的发生，以提高精密掩膜板的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 精密 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种精密掩膜板，包括沿第一方向分布的图案区以及位于其两侧的应力释放区，其特征在于，所述应力释放区包括沿第一方向分布的第一应力释放单元及第二应力释放单元，所述第二应力释放单元包括多个间隙。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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