[实用新型]一种热蒸发镀膜装置

摘要

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种热蒸发镀膜装置，该装置包括真空室和设置于真空室内的蒸发源，在蒸发源上方设置有能够阻挡膜料的挡板，在挡板上方设置有调制盘，调制盘通过转轴与设置于真空室外的调制电机连接；调制电机与驱动器和控制器连接；本实用新型结构简单，成本低廉，系统紧凑，能根据需要对沉积频率和占空比进行调节，实现对膜厚和结构的有效控制。

主权项

一种热蒸发镀膜装置，包括真空室（7）和设置于真空室内的蒸发源（1），其特征在于：在蒸发源（1）上方设置有能够阻挡膜料的挡板（2），在挡板（2）上方设置有调制盘（3），所述的调制盘（3）通过转轴与设置于真空室（7）外的调制电机（4）连接；调制电机（4）与驱动器（5）和控制器（6）连接；所述的调制盘（3）包括调制板固定架（8）和设置于调制板固定架（8）内的多片移动叶片（12）；所述的调制板固定架（8）包括圆环形的框架（13）、多片固定叶片（9）和联轴器（11）；所述的固定叶片（9）为扇形板形状，多片固定叶片（9）等间隔设置于框架（13）的圆环内，固定叶片（9）的长弧段通过焊接与框架（13）连接，固定叶片（9）的短弧段通过焊接连接联轴器（11）；所述的联轴器（11）设置于多片固定叶片（9）的中央位置；联轴器（11）与转轴配合连接；在框架（13）的圆环面上均布多个螺纹孔；联轴器上设置有紧固螺母（10）；所述的移动叶片（12）为扇形板形状，移动叶片（12）的长弧端设置有多个螺纹孔，多片移动叶片（12）的长弧端可通过螺纹连接设置于框架（13）的不同位置，移动叶片（12）的短弧端通过紧固螺母（10）与联轴器（11）连接。