[实用新型]化学机械抛光装置用承载头的隔膜及承载头

摘要

本实用新型涉及一种化学机械抛光装置用承载头的隔膜及承载头，化学机械抛光装置用承载头的隔膜包括：底板，由可挠性材质形成；侧面，在上述底板的边缘折弯而成，并由可挠性材质形成，在与上述底板相邻的外周面上形成有环形的第一缓冲槽；以及内侧固定体，由硬度高于上述侧面及上述底板的材质形成，并固定于上述第一缓冲槽的上侧的内侧，随着在隔膜的侧面的外周面上形成有环形的第一缓冲槽，本实用新型在沿着传递加压力的侧面形成的路径中的第一缓冲槽的位置中，剖面逐渐减少，使得向下方传递的加压力无法集中于晶片的边缘末端而分散，从而可以防止向晶片的边缘传递的加压力过度增加。

主权项

一种化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，包括：底板，由可挠性材质形成；侧面，在上述底板的边缘折弯而成，并由可挠性材质形成，在上述侧面的外周面上形成有环形的第一缓冲槽；内侧固定体，由硬度高于上述侧面及上述底板的材质形成，并固定于上述第一缓冲槽的上侧的内侧。