[实用新型]一种磁控溅射装置

摘要

本实用新型公开了一种磁控溅射装置，本实用新型中该磁控溅射装置包括：至少两个靶位、传送机构、第一驱动机构以及第二驱动机构；相邻靶位之间具有一定间距，靶材固定于靶位上，磁体相对靶材以第二速度运动形成移动磁场；第一驱动机构设置于装置的至少一端，传送机构铺设于靶位的下方，工件置于传送机构上表面，第一驱动机构驱动传送机构，传送机构以第一速度匀速传送工件穿过移动磁场，传送机构的运动方向为第一方向，与第一方向相反的方向为第二方向；磁体在第一方向与第二方向之间往复运动于靶材内；各靶位的移动磁场的初始位置互补设置。解决了利用移动磁场镀膜厚度不均的问题，从而在增加靶材利用率的同时提升镀膜均匀性。

主权项

一种磁控溅射装置，其特征在于，包括至少两个靶位、传送机构、第一驱动机构以及第二驱动机构；设置至少两个具有靶材和磁体的靶位，相邻两个所述靶位之间具有一定间距，所述靶材固定于所述靶位上，并所述磁体相对所述靶材以第二速度运动形成移动磁场且所述移动磁场具有一定功率；所述第一驱动机构设置于所述装置的至少一端，所述传送机构铺设于所述靶位的下方，所述工件放置于所述传送机构上表面，所述第一驱动机构驱动所述传送机构，所述传送机构以第一速度匀速传送所述工件穿过所述移动磁场，所述传送机构的运动方向为第一方向，与所述第一方向相反的方向为第二方向；所述磁体在所述第一方向与所述第二方向之间往复运动于所述靶材内，所述磁体完成一次往复运动的时间为一个周期；各所述靶位的所述移动磁场的初始位置互补设置。