[实用新型]抛光设备有效
| 申请号： | 201520703994.3 | 申请日： | 2015-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN204997521U | 公开（公告）日： | 2016-01-27 |
| 发明（设计）人： | 陈孟端 | 申请（专利权）人： | 正恩科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B41/06 | 分类号： | B24B41/06;B24B29/02 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李昕巍;赵根喜 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种抛光设备，包括：具有容置空间的机台本体、设于该容置空间上侧的固定装置、以及设于该容置空间下侧的抛光装置，且该固定装置具有连通该容置空间的气道，以于进行抛光作业时，通过该气道提供一气流阻挡力，而阻挡浆液渗入该固定装置内。相较于现有技术，本实用新型能确保该固定装置的吸附能力，且能避免浆液破坏该固定装置或该机台本体的内部构件，因而能大幅降低更换该固定装置的频率，且大幅降低修复该固定装置与机台本体的频率，进而能提高该抛光设备的运作可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 设备 | ||
【主权项】：
一种抛光设备，其特征为，该抛光设备包括：机台本体，其具有相对的第一侧与第二侧、及于该第一侧与第二侧之间形成的一容置空间；具有气道的固定装置，其设于该机台本体的第一侧上并位于该容置空间中，且该气道连通该容置空间；以及抛光装置，其设于该机台本体的第二侧上并位于该容置空间中。
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