[实用新型]激光蚀刻设备

摘要

本实用新型提供一种激光蚀刻设备，该激光蚀刻设备用于将一透明导电基板的一导电层图案化，其中导电层上具有供进行激光蚀刻作业的多个作业区域，且相邻的两个作业区域之间具有一接图界面，所述激光蚀刻设备包括一作业平台、激光光源模组及一蚀刻执行装置，激光光源模组定位于作业平台上方，而蚀刻执行装置设置于作业平台上，用于移载透明导电基板，以使这些作业区域循序地接受激光光源模组所施予的激光蚀刻作业，并带动透明导电基板缓冲停止，依此方式，所形成的任一蚀刻图案中的蚀刻线段可具有跨越接图界面的一延伸蚀刻长度。本实用新型提供的激光蚀刻设备可有效改善图面接合区域的过度蚀刻现象与接图界面间的开路不良的问题。

主权项

一种激光蚀刻设备，用于图案化一透明导电基板的一导电层，其中所述导电层上具有供进行激光蚀刻作业的多个作业区域，且相邻的两个作业区域之间具有一接图界面，其特征在于，所述激光蚀刻设备包括：一作业平台；一激光光源模组，所述激光光源模组定位于所述作业平台的上方，用于将一部分的所述导电层烧毁，以分别在所述多个作业区域内形成一预定的蚀刻图案，其中多个所述蚀刻图案中的任一蚀刻图案包括跨越相邻的任一所述接图界面的至少一蚀刻线段；以及一蚀刻执行装置，所述蚀刻执行装置设置于所述作业平台上，用于移载所述透明导电基板，以使所述多个作业区域循序地接受所述激光光源模组所施予的激光蚀刻作业，并带动所述透明导电基板缓冲停止，使至少一所述蚀刻线段具有跨越相邻的任一所述接图界面的一延伸蚀刻长度。