[实用新型]非易失性存储单元与存储器件有效

专利信息
申请号: 201520769859.9 申请日: 2015-09-30
公开(公告)号: CN204966499U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: T·C·H·姚;G·J·斯歌特 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 秦晨
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及非易失性存储单元与存储器件,所公开的实施例包含电容器、隧穿增强型器件及晶体管。根据一种实施例,电容器具有第一及第二电极,其中该电容器的第一电极用作存储器件的控制栅极。隧穿增强型器件具有第一电极和第二电极,其中第二电容器的第一电极用作存储器件的擦除栅极,并且隧穿增强型器件的第二电极耦接至电容器的第二电极以形成浮置栅极。该晶体管具有控制电极和一对载流电极,其中该晶体管的控制电极与浮置栅极直接耦接。
搜索关键词: 非易失性 存储 单元 器件
【主权项】:
一种非易失性存储单元,其特征在于包含:具有主表面的为第一导电类型的半导体材料;在所述半导体材料的第一部分内的第一隔离区以及在所述半导体材料的第二部分内的第二隔离区,所述第一隔离区具有第一面及第二面,所述第二隔离区具有第一面及第二面,其中所述半导体材料的与所述第一隔离区的所述第一面相邻的部分用作第一有源区,所述半导体材料在所述第一隔离区的所述第二面与所述第二隔离区的所述第一面之间的部分用作第二有源区,并且所述半导体材料的与所述第二隔离区的所述第二面相邻的部分用作第三有源区;由所述第一有源区形成的第一电容器,所述第一电容器具有第一电极及第二电极,所述第一电容器的所述第一电极用作控制栅极;由所述第二有源区形成的隧穿增强型器件,所述隧穿增强型器件具有第一电极和第二电极,所述隧穿增强型器件的所述第一电极用作擦除栅极,并且所述隧穿增强型器件的所述第二电极与所述第一电容器的所述第二电极耦接以形成浮置栅极;以及由所述第三有源区形成的状态晶体管,所述状态晶体管具有控制电极、第一载流电极及第二载流电极,所述状态晶体管的所述控制电极直接耦接至所述浮置栅极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于半导体元件工业有限责任公司,未经半导体元件工业有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520769859.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top