[实用新型]含定向扩散结的肖特基器件有效

专利信息
申请号: 201520792159.1 申请日: 2015-10-14
公开(公告)号: CN204966511U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 洪旭峰;王锰 申请(专利权)人: 上海芯石微电子有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201605 上海市松*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 含定向扩散结的肖特基器件。P型岛区将占用15%以上的肖特基势垒区面积,影响JBS肖特基器件的参数性能,现在很多芯片加工厂,不能制作出性能优良的JBS肖特基器件。本实用新型组成包括:硅单晶基片(1),所述的硅单晶基片上具有外延层(2),所述的外延层上设置有肖特基势垒区(3),所述的肖特基势垒区与一组台面凸点P型区(4)配合,所述的肖特基势垒区上部装有阳极金属层(8),所述的阳极金属层两侧设置有金属场板(6),所述的阳极金属层两侧与厚氧化层(7)连接,所述的厚氧化层下部装有P+环(5),所述的硅单晶基片下部装有阴极金属层(9)。本实用新型用于制造含定向扩散结的肖特基器件。
搜索关键词: 定向 扩散 肖特基 器件
【主权项】:
一种含定向扩散结的肖特基器件,其组成包括:硅单晶基片,其特征是:所述的硅单晶基片上具有外延层,所述的外延层上设置有肖特基势垒区,所述的肖特基势垒区与一组台面凸点P型区配合,所述的肖特基势垒区上部装有阳极金属层,所述的阳极金属层两侧设置有金属场板,所述的阳极金属层两侧与厚氧化层连接,所述的厚氧化层下部装有P+环,所述的硅单晶基片下部装有阴极金属层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海芯石微电子有限公司,未经上海芯石微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520792159.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top