[实用新型]一种负压承载装置有效
申请号: | 201520799135.9 | 申请日: | 2015-10-16 |
公开(公告)号: | CN204991666U | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
发明(设计)人: | 亓凯 | 申请(专利权)人: | 山东百利通亚陶科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/673 |
代理公司: | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人: | 闫晓燕 |
地址: | 250103 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种负压承载装置。它包括承载座、吸尘分类装置和抽真空装置;承载座包括底座,支架将凹腔分隔为若干个凹腔单体,在支架上固连有盖合凹腔的盖板,盖板上密布有若干个与凹腔相连通的吸孔,在承载座一侧设有气体分流器,每个凹腔单体通过第一管路与气体分流器相连;吸尘分类装置包括箱体,两挡板与箱体内壁之间形成铁屑收集室,两挡板之间的箱体底部设有出气孔,在箱盖上设有进气孔,气体分流器通过第二管路与进气孔相连;抽真空装置通过第三管路与出气孔相连。本实用新型使用时将掩膜的拆卸工序放在承载座上进行,承载座上表面形成负压状态,螺丝间残存的铁屑、脏污能够通过吸孔清除,从而保证了产品的质量,维护了生产环境。 | ||
搜索关键词: | 一种 承载 装置 | ||
【主权项】:
一种负压承载装置,其特征在于:包括承载座、吸尘分类装置和抽真空装置;承载座包括底座,在底座上表面设有凹腔,在凹腔内设有支架,支架将凹腔分隔为若干个凹腔单体,在支架上固连有盖合凹腔的盖板,盖板上密布有若干个与凹腔相连通的吸孔,在承载座一侧设有气体分流器,每个凹腔单体通过第一管路与气体分流器相连;吸尘分类装置包括箱体,箱体的顶部开口设置,在箱体顶部设有与其活动连接的箱盖,在箱体底部设有竖直、平行设置的两挡板,在两挡板外侧上方的箱体内壁上设有电磁铁,两挡板与箱体内壁之间形成铁屑收集室,两挡板之间的箱体底部设有出气孔,在箱盖上设有进气孔,进气孔正对应于两挡板之间的位置设置,气体分流器通过第二管路与进气孔相连;抽真空装置通过第三管路与出气孔相连。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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