[实用新型]一种溅射镀膜掩膜版有效
| 申请号： | 201520919773.X | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN205229663U | 公开（公告）日： | 2016-05-11 |
| 发明（设计）人： | 赖会琼;邢慧颖;杨丹;杨正军;王光强 | 申请（专利权）人： | 宁波东盛集成电路元件有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人： | 杜军 |
| 地址： | 315800 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种溅射镀膜掩膜版，包括本体，本体为方形结构，本体长度为20mm，本体宽度为20mm，本体四个顶点位置均设有十字件，十字件长度和宽度均为1.2mm。相对现有技术，本实用新型具有多种图形，能够满足不同用户需求，使用便捷并且制造成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 镀膜 掩膜版 | ||
【主权项】：
一种溅射镀膜掩膜版，包括本体，其特征在于，本体为方形结构，本体长度为20mm，本体宽度为20mm，本体四个顶点位置均设有十字件，十字件长度和宽度均为1.2mm。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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