[实用新型]一种倒装发光二极管芯片有效
申请号: | 201520922310.9 | 申请日: | 2015-11-18 |
公开(公告)号: | CN205194731U | 公开(公告)日: | 2016-04-27 |
发明(设计)人: | 杨杰;常文斌;林宇杰 | 申请(专利权)人: | 上海博恩世通光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/20 | 分类号: | H01L33/20;H01L33/14;H01L33/46;H01L33/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 罗泳文 |
地址: | 201108 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供一种倒装发光二极管芯片,所述倒装发光二极管芯片包括:衬底、外延结构、透明导电层、反射镜、绝缘沟槽、绝缘阻挡层、台面结构、反射导电层、钝化层、N电极以及P电极。本实用新型于倒装发光二极管芯片周侧做沟道绝缘,可以减少芯片的漏电流;于切割道区域增加反射镜,有利于提高产品亮度;另外,本实用新型将N-GaN的引出制作于N-GaN的侧壁及切割道区域,可以大大增加发光二极管的有效发光面积,提升光亮度;藉由N反射导电层以及P电极预留区域,在钝化层开孔后可以直接制作N电极及P电极,减少工艺步骤,降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 倒装 发光二极管 芯片 | ||
【主权项】:
一种倒装发光二极管芯片,其特征在于,包括:衬底;外延结构,包括依次层叠的N型层、量子阱层以及P型层;透明导电层,形成于所述外延结构表面;绝缘沟槽,形成于所述透明导电层及外延结构的周侧,其深度为直至所述N型层内部,所述绝缘沟槽内填充有绝缘材料;反射镜,形成于所述透明导电层表面;绝缘阻挡层,形成于所述反射镜表面;台面结构,形成于切割道区域,所述台面结构露出有N型层台面以及N型层侧壁;反射导电层,形成于所述N型层的台面、N型层侧壁以及绝缘阻挡层的部分表面,且与所述N型层的台面结构及N型层侧壁形成欧姆接触,并且,于所述绝缘阻挡层表面具有P电极预留区域;钝化层,覆盖于倒装发光二极管芯片表面,其具有直至所述反射导电层的N电极开孔,以及与所述P电极预留区域对应且直至所述透明导电层的P电极开孔;N电极,形成于所述N电极开孔内;以及P电极,形成于所述P电极开孔内。
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