[实用新型]一种用于纳米压印过程中的改进装置有效

专利信息
申请号: 201520941241.6 申请日: 2015-11-24
公开(公告)号: CN205384442U 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 王清;张金涛;马立俊;刘华伟;张睿;郑旭;张艳菊;张星远;杜文全;郑通;邢晓婷 申请(专利权)人: 山东科技大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266590 山东省青*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了一种用于纳米压印过程中的改进装置,包括曝光光源、观测光源及观测孔,所述观测光源安装在紫外曝光装置中,所述曝光光源采用LED紫外灯,所述观测孔被观测光源与曝光光源环绕。与现有技术相比,本实用新型使压印过程的实时观测成为可能,克服了压印过程中模板与基板对准精度较低的问题,保证了纳米结构的精确转移。
搜索关键词: 一种 用于 纳米 压印 过程 中的 改进 装置
【主权项】:
一种用于纳米压印过程中的改进装置,其特征在于:包括曝光光源、观测光源及观测孔,所述观测光源安装在紫外曝光装置中,所述观测孔被观测光源与曝光光源环绕。
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