[实用新型]一种电子轰击型雪崩二极管有效

专利信息
申请号: 201520962137.5 申请日: 2015-11-27
公开(公告)号: CN205248292U 公开(公告)日: 2016-05-18
发明(设计)人: 徐鹏霄;王霄;周剑明;唐家业;王旺平;戴丽英;唐光华;赵文锦;钟伟俊;汪述猛 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0203;H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 南京君陶专利商标代理有限公司 32215 代理人: 沈根水
地址: 210016 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种电子轰击型雪崩二极管,其结构从下到上依次是背面电极,此电极为Ti/Pt/Au电极;衬底,此衬底为n型Si;p型Si外延层;p型Si重掺杂层;正面电极,此电极为Ti/Pt/Au电极;SiO2氧化层,此钝化层位于n型Si衬底、p型Si外延层以及p型Si重掺杂层的表面和侧面,起到钝化和降低暗电流的作用;玻璃钝化层,该层位于SiO2氧化层上,加厚SiO2氧化层并填充器件台面台阶。该种结构的雪崩二极管能够对电子实现收集并探测,同时在雪崩工作电压下,结区收集到的电子可以实现雪崩放大效应,制备工艺简便,暗电流低,可靠性高。
搜索关键词: 一种 电子 轰击 雪崩 二极管
【主权项】:
一种电子轰击型雪崩二极管,其特征在于:在n型Si衬底(6)上依次为p型Si外延层(4)、p型Si重掺杂层(1)、正面电极(2),SiO2氧化层(5)位于p型Si外延层(4)和p型Si重掺杂层(1)的表面和侧面,玻璃钝化层(3)位于SiO2氧化层(5)之上,背面电极(7)位于n型Si衬底(6)的下方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第五十五研究所,未经中国电子科技集团公司第五十五研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520962137.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top