[实用新型]放射性同位素高分子多层膜有效

专利信息
申请号: 201520963579.1 申请日: 2015-11-30
公开(公告)号: CN205411713U 公开(公告)日: 2016-08-03
发明(设计)人: 沈阳 申请(专利权)人: 沈阳
主分类号: A61K51/06 分类号: A61K51/06;A61K101/02;A61K103/00;A61K101/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100023 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本实用新型涉及一种放射性同位素高分子多层膜方面的发明。用于制造该种放射性同位素高分子多层膜的高分子材料为:聚胺酯、硅像胶、医用乳胶材料,形成该种放射性同位素高分子多层膜需要将上述高分子材料通过溶剂溶解并和放射性同位素125I混合成放射性高分子溶液用于制造放射性同位素高分子膜;需要将上述高分子材料通过溶剂溶解形成高分子溶液用于制造多层膜中的基层膜及外层保护膜。上述放射性同位素高分子多层膜需借助载体进行临床应用。该载体为:镍钛合金丝编织成的圆柱形网状支架、镍钛管激光雕刻成的圆柱形网状支架或植入人体的硅胶材料。上述放射性同位素高分子膜及多层膜中的基层膜及外层保护膜需按覆盖于载体上基底膜、放射性同位素高分子膜、保护膜的次序喷涂、浸渍或浇覆并经干燥设备干燥而成。
搜索关键词: 放射性同位素 高分子 多层
【主权项】:
放射性同位素高分子多层膜,其特征在于:由基层膜、放射性同位素膜及外层保护膜按次序干燥覆盖成整体而成,上述基层膜、外层保护膜由聚碳酸酯的Carbothane热塑性聚氨酯或Pellethane热塑性聚氨酯制造;上述放射性同位素膜由基于聚碳酸酯的Carbothane热塑性聚氨酯制造。
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