[实用新型]密度计校准系统有效

专利信息
申请号: 201520995642.X 申请日: 2015-12-03
公开(公告)号: CN205246476U 公开(公告)日: 2016-05-18
发明(设计)人: 陈超云;王金涛;李之昊;刘翔;刘子勇;佟林;暴雪松;张培满 申请(专利权)人: 中国计量科学研究院
主分类号: G01N9/00 分类号: G01N9/00
代理公司: 北京思创毕升专利事务所 11218 代理人: 孙向民;廉莉莉
地址: 100013 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种密度计校准系统,包括:校准液体,校准液体置于容器中;悬挂部件,悬挂部件与待校准密度计连接,用于调整待校准密度计在校准液体中的竖直位置;以及成像装置,设置于容器外部、校准液体的液面下方,用于对待校准密度计进行成像。本实用新型引入成像装置,利用校准液面的镜面作用,精确定位校准液面弯月面的刻线,从而提高了密度计校准的准确性。
搜索关键词: 密度计 校准 系统
【主权项】:
一种密度计校准系统,其特征在于,包括:校准液体,所述校准液体置于容器中;悬挂部件,所述悬挂部件与待校准密度计连接,用于调整所述待校准密度计在所述校准液体中的竖直位置;以及成像装置,设置于所述容器外部、所述校准液体的液面下方,用于对所述待校准密度计进行成像。
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