[实用新型]一种等离子体刻蚀设备

摘要

一种等离子体刻蚀设备,用于对基片进行等离子体刻蚀，至少包括：放置载盘的非真空第一腔体、传送载盘的第二腔体、刻蚀载盘上基片的真空第三腔体，本实用新型通过在第二腔体内增设遮罩装置，当第二腔体由真空环境向非真空环境切换破气时，遮罩装置中的遮罩下降并恰好罩于载盘上，保护载盘上的基片，防止破气时进入腔体的气体中的脏污对载盘上基片的污染；另外，将第二腔体的进气孔设置于远离载盘的位置，并在进气孔上方增设栅网，同样防止扬尘产生,避免破气时对基片的污染。

主权项

一种等离子体刻蚀设备,用于对基片进行等离子体刻蚀，至少包括：承载复数个基片的载盘、放置复数个载盘的第一腔体、传送所述载盘的第二腔体、以及刻蚀所述基片的第三腔体，所述第一腔体、第二腔体和第三腔体分别通过自由开关的隔板连接，通过控制所述隔板开关状态，实现所述第一腔体、第二腔体和第三腔体的连通或隔离；所述第二腔体内设置有传送装置，用于在第一腔体和第三腔体之间传送所述载盘；第一腔体为非真空腔体、第三腔体为真空腔体、而第二腔体在真空腔体和非真空腔体之间切换；其特征在于：所述第二腔体内于所述载盘上方还设置一遮罩装置，当所述遮罩装置罩于所述载盘上时，保护所述载盘上的基片免受污染。