[实用新型]晶圆清洁设备有效

专利信息
申请号: 201521140775.5 申请日: 2015-12-31
公开(公告)号: CN205380086U 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 刘红兵;陈概礼;李祝青 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: B08B1/02 分类号: B08B1/02;B08B11/02;H01L21/67
代理公司: 上海脱颖律师事务所 31259 代理人: 李强
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种晶圆清洁设备。所述晶圆清洁设备包括支撑机构、抽真空装置及支撑台。所述抽真空装置包括气管。所述支撑台可旋转地设置在所述支撑机构上。所述支撑台上开设有吸附通孔。所述吸附通孔设置为与所述气管连通。所述支撑台用于支撑晶圆。所述晶圆清洁设备的效率高且清洁程度高。
搜索关键词: 清洁 设备
【主权项】:
一种晶圆清洁设备,其特征在于,所述晶圆清洁设备包括:支撑机构;抽真空装置,所述抽真空装置包括气管;支撑台,所述支撑台可旋转地设置在所述支撑机构上,所述支撑台上开设有吸附通孔,所述吸附通孔设置为与所述气管连通,所述支撑台用于支撑晶圆。
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