[发明专利]制备偏光板的方法及偏光板有效
| 申请号： | 201580000754.X | 申请日： | 2015-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN105474055B | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 李炳鲜;南星铉;罗钧日 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;C08J5/18;B32B27/30;B29D7/01;B29L7/00;B29L11/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种偏光板和制备该偏光板的方法，更具体地，涉及一种局部具有去偏光区域的偏光板的制备方法，所述方法包括以下步骤：提供用碘和/或二向色染料染色的基于聚乙烯醇的偏光片；在所述偏光片的一个表面上配备保护膜和离型膜；以及使脱色溶液局部接触所述偏光片的另一表面，从而形成一个或多个去偏光区域，其中，所述离型膜配备在所述保护膜的与面向所述偏光片的表面相反的表面上，所述去偏光区域在400nm至800nm的波长带处具有80％以上的单体透射率和10％以下的偏光度，且所述去偏光区域的最大凹陷深度为10μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 偏光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造偏光板的方法，所述方法包括：提供用碘和二向色染料中的一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片；在所述偏光片的一个表面上配备保护膜和具有6000N以上的抗张强度离型膜；以及通过使脱色溶液局部接触所述偏光片的另一表面来形成至少一个去偏光区域；并且在所述去偏光区域的形成之后，利用醇或酸溶液进行清洗，其中，所述离型膜配备在所述保护膜的与面向所述偏光片的表面相反的表面上，所述去偏光区域在400nm至800nm范围内的波长带处具有80％以上的单体透射率和10％以下的偏光度，且所述去偏光区域的最大凹陷深度为10μm以下。
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