[发明专利]固态成像装置和电子设备有效
申请号: | 201580001823.9 | 申请日: | 2015-08-14 |
公开(公告)号: | CN105580138B | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 桝田佳明;佐藤尚之 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | H01L27/14 | 分类号: | H01L27/14;H04N5/369 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 曹正建;陈桂香 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种被设计成减少每个相位差检测像素的遮光层的侧壁面处的入射光的反射的固态成像装置以及一种电子设备。根据本发明的一个方面的固态成像装置包括:普通像素,其生成像素信号;以及相位差检测像素,其生成用于像平面相位差AF的相位差信号。在该固态成像装置中,普通像素以及相位差检测像素均包括光电转换层和将入射光聚集至光电转换层上的透镜;相位差检测像素包括具有开口部的遮光层,所述开口部具有相对于透镜的光轴偏离的开口;并且在遮光层上形成防止由透镜聚集的入射光的反射的防反射部。本发明可以应用于背面照射型CIS。 | ||
搜索关键词: | 固态 成像 装置 电子设备 | ||
【主权项】:
一种固态成像装置,其包括:普通像素,其生成像素信号;以及相位差检测像素,其生成用于像平面相位差AF的相位差信号,其中,所述普通像素和所述相位差检测像素均包括光电转换层和将入射光聚集至所述光电转换层上的透镜,所述相位差检测像素包括具有开口部的遮光层,所述开口部具有相对于所述透镜的光轴偏离的开口,并且在所述遮光层上形成有防反射部,以用于防止由所述透镜聚集的所述入射光的反射。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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