[发明专利]电子束蒸发源及真空蒸镀装置有效

专利信息
申请号: 201580003277.2 申请日: 2015-12-04
公开(公告)号: CN105874097B 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 后田以诚;矢岛太郎;矶野坚一 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;H01J37/06
代理公司: 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 代理人: 韩登营;蒋国伟
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够对在较大范围飞散的反射电子稳定地进行捕捉的电子束蒸发源及具有该电子束蒸发源的真空蒸镀装置。该电子束蒸发源具有蒸发材料保持部、电子枪和磁路部。所述蒸发材料保持部具有能够保持第1蒸发材料的第1保持区域。所述电子枪与所述第1保持区域在所述第1轴方向排列配置,能够对所述第1保持区域射出电子束。所述磁路部具有:磁性板,其由软磁性材料构成;和反射电子偏转部件,其能够使所述电子束由第1蒸发材料反射后的反射电子向所述磁性板偏转,该磁路部与所述电子枪隔着所述第1保持区域而在第1轴方向排列配置。
搜索关键词: 电子束 蒸发 真空 装置
【主权项】:
1.一种电子束蒸发源,其特征在于,具有:蒸发材料保持部,其具有能够保持第1蒸发材料的第1保持区域;电子枪,其与所述第1保持区域在所述第1轴方向排列配置,且能够对所述第1保持区域射出电子束;和磁路部,该磁路部具有:磁性板,其由软磁性材料构成;和反射电子偏转部件,其能够使所述电子束由第1蒸发材料反射后的反射电子向所述磁性板偏转,该磁路部与所述电子枪隔着所述第1保持区域而在所述第1轴方向排列配置。
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