[发明专利]用于沉积功能层的等离子涂覆方法和沉积装置

摘要

本发明涉及一种用于在基底的表面上沉积功能层的等离子涂覆方法和一种用于执行该涂覆方法的装置。为了提供能够实现较高的涂覆速度且在正常大气条件下进行的等离子涂覆方法而根据本发明提出的是，使用大气等离子体和惰性的载气，从而一方面可以将用于开始进行化学反应的较高能量引入到涂覆材料中，另一方面能够在除去等离子体中的空气氧的情况下实现可控的化学反应。用于形成功能层的涂覆材料经由供给部在除去氧气的情况下被直接供给到在喷嘴内生成的等离子体中。

主权项

1.一种用于在基底(4)的表面上沉积功能层(3)的等离子涂覆方法，所述等离子涂覆方法包括如下步骤：‑提供惰性气体作为所述等离子涂覆方法的载气，‑在大气压下通过激励流过具有喷嘴头(1a)的喷嘴(1)的所述惰性气体生成等离子束，其中，对所述惰性气体的激励通过两个彼此间隔开地布置的电极(8、1a)之间的电弧放电来进行，所述电极与电流源(7)连接，并且用于生成所述电弧放电的电流在10A‑300A之间，并且用于生成所述电弧放电的电压在10V‑100V之间，‑将至少一种涂覆材料引入到所述等离子束内，其中，在除去了空气氧直至所述空气氧从所述喷嘴头(1a)离开的情况下，在等离子体中生成可控的化学反应，并且‑将从所述喷嘴头(1a)输出的大气压等离子体对准所述基底(4)的表面。