[发明专利]透明光掩模及其制造方法及用其形成导电网格图案的方法有效

专利信息
申请号: 201580008070.4 申请日: 2015-02-13
公开(公告)号: CN106462087B 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 朴正岵;郑镇美;郑有珍;辛富建 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: G03F7/26 分类号: G03F7/26;G03F7/20;H01J1/30
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 李静;黄丽娟
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种制造母模的方法、由该方法制造的母模、制造透明光掩模的方法、由该方法制造的透明光掩模以及使用该透明光掩模制造导电网格图案的方法。
搜索关键词: 用于 制造 方法 透明 光掩模 以及 使用 形成 导电 网格 图案
【主权项】:
1.一种用于制造透明光掩模的方法,包括:1)在基板上形成第一光敏材料层;2)通过使刻有线形图案的透明光掩模与所述第一光敏材料层的上表面接触形成第一光敏材料图案层;3)在具有所述第一光敏材料图案层的所述基板上形成第二光敏材料层;4)使刻有所述线形图案的所述透明光掩模与所述第二光敏材料层的上表面接触,使得所述第一光敏材料图案层的线形图案与所述透明光掩模的所述线形图案交叉而在所述基板上形成第二光敏材料图案层;5)蚀刻所述基板上未形成所述第一光敏材料图案层和所述第二光敏材料图案层的部分;6)通过去除所述第一光敏材料图案层和所述第二光敏材料图案层制造具有凸出网格图案的母模;7)在所述母模上形成透明树脂层;以及8)从所述母模上去除所述透明树脂层。
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