[发明专利]通过脉冲激光沉积来沉积材料的设备以及利用该设备沉积材料的方法

摘要

本发明涉及一种用于通过脉冲激光沉积来沉积材料的设备，所述设备包括：‑真空室；‑至少一个衬底支架及衬底，置于所述真空室内，所述衬底具有第一、第二和第三方向，这三个方向中每一个互相垂直，其中所述衬底能够通过所述衬底支架在所述第一方向上移动；‑靶支架及靶，置于所述真空室内，其中所述靶与所述衬底平行地基本在所述衬底的在所述第二方向上的全长上延伸；‑至少一束激光，用于照射所述靶，从而生成沉积在所述衬底上的材料的等离子体，其中所述激光在所述靶上的入射位置能够平行于所述衬底的所述第二方向移动；以及‑控制器，用于控制所述衬底支架的移动以及所述激光在所述靶上的所述入射位置的移动。

主权项

1.用于通过脉冲激光沉积来沉积材料的设备，所述设备包括：‑真空室；‑至少一个衬底支架及衬底，置于所述真空室内，所述衬底具有第一、第二和第三方向，这三个方向中每一个互相垂直，其中所述衬底能够通过所述衬底支架在所述第一方向上移动；‑靶支架及靶，置于所述真空室内，其中所述靶在所述衬底的所述第二方向的基本全长上延伸并且所述靶与所述衬底平行；‑至少一束激光，用于照射所述靶，从而生成沉积在所述衬底上的材料的等离子体，其中所述激光在所述靶上的入射位置能够平行于所述衬底的所述第二方向移动；以及‑控制器，用于控制所述衬底支架的移动以及所述激光在所述靶上的所述入射位置的移动，其中在移动方向上来看时，当所述激光的入射位置到达所述衬底的远端边缘时，所述控制器将所述激光的入射位置重置到所述衬底的最近边缘，并且其中所述设备还包括阻挡装置，用于在重置所述激光在所述靶上的所述入射位置的期间，阻挡等离子体羽流在所述衬底上的沉积。