[发明专利]用于极紫外光源的自适应激光器系统有效

专利信息
申请号: 201580011220.7 申请日: 2015-02-24
公开(公告)号: CN106465525B 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 陶业争;D·J·W·布朗;A·A·沙夫甘斯;M·D·考迪尔;D·J·格里斯;R·L·桑德斯特罗姆;Y·亚马达 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于极紫外(EUV)光源的系统包括光学放大器(206),包含定位在光束路径上的增益介质(207),光学放大器被配置为在输入端处接收光束并且在输出端处发射输出光束以用于EUV光源;反馈系统(215),测量输出光束的性质并基于所测量的性质产生反馈信号(219);以及自适应光学元件(208),位于光束路径中并且被配置为接收反馈信号以及响应于反馈信号调节输出光束的性质。
搜索关键词: 用于 紫外 光源 自适应 激光器 系统
【主权项】:
1.一种极紫外光源,包括:源,被配置为产生放大光束,所述源包括:两个或多个光学放大器,每个光学放大器包括位于光束路径上的增益介质,并且每个光学放大器被配置为在输入端处接收沿着所述光束路径传播的输入光束并且在输出端处发射输出光束并且发射至所述光束路径上;一个或多个自适应光学元件,位于所述光束路径上,所述自适应光学元件为响应于反馈信号可调节的;以及反馈系统,被耦合至所述一个或多个自适应光学元件,所述反馈系统包括被定位在所述光学放大器中的一个光学放大器的输出端处的传感器,所述反馈系统被配置为:基于由所述传感器测量到的性质而生成所述反馈信号,以及将所述反馈信号提供至相应的自适应光学元件,所述相应的自适应光学元件为所述自适应光学元件中的至少一个自适应光学元件,并且所述相应的自适应光学元件被定位在所述光学放大器中的一个光学放大器的所述输出端与所述光学放大器中的另外的光学放大器的输入之间,其中所述传感器处于所述相应的自适应光学元件和所述光学放大器中的一个光学放大器的输出端之间;真空腔室;靶材料输送系统,引导靶材料朝向在所述真空腔室的内部的靶位置并且接收所述放大光束,所述靶材料包括当被转换为等离子体时发射极紫外光的材料;以及收集器,在所述真空腔室的内部,所述收集器被定位以接收并引导所发射的极紫外光。
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