[发明专利]图案位置误差感知优化有效
| 申请号： | 201580014364.8 | 申请日： | 2015-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN106104384B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | D-F·S·徐;贾建军;刘晓峰;张翠平 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 这里公开了一种改进光刻工艺的计算机实施的方法，光刻工艺用于使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像到衬底上，该方法包括：计算作为光刻工艺的特性的多个设计变量的多变量代价函数；以及通过调整设计变量直到满足预定义终止条件来重新配置光刻工艺的特性。多变量代价函数可以为一个或多个图案偏移误差的函数。特性的重新配置可以在对一个或多个图案偏移误差的一个或多个约束下。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 位置 误差 感知 优化 | ||
【主权项】：
1.一种改进光刻工艺的计算机实施的方法，所述光刻工艺用于使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述方法包括：计算多个设计变量的多变量代价函数，所述多个设计变量是所述光刻工艺的特性；以及在对一个或多个图案偏移误差的一个或多个约束下，通过调整所述设计变量直到预定义终止条件被满足来重新配置所述光刻工艺的所述特性，其中所述一个或多个图案偏移误差包括图案的预期投影与所述图案的实际投影或模拟投影之间的偏移。
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