[发明专利]成膜装置及成膜方法在审
| 申请号： | 201580015142.8 | 申请日： | 2015-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN106133188A | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 中尾裕利;佐藤诚一;柴智志;坂内雄也;木村孔 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 齐永红 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在使片状基材以规定速度移动的同时，隔着掩膜供给成膜材料并在基材的一面上以规定图案连续成膜时，可使片状基材的一部分和片状转印基板的一部分以高精度进行位置对准，并且，可降低装置成本和运营成本的成膜装置。具有：以从成膜设备(9)朝向片状基材(Sw)的方向为上，掩膜件移动装置(4)具有片状掩膜件(Sm)的一部分(Sm1)相对于朝一个方向移动的片状基材的一部分(Sw1)在上下方向上距离规定间隔平行移动的平行移动区域形成部(42a、42b)；以及使片状掩膜件与片状基材同步移动的驱动部(42d、DM2)，将平行移动区域形成部和驱动部设置在单一的支架(41)上。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种成膜装置，其特征在于，具有：在真空处理室内以规定速度移动片状基材的基材移动装置；对朝一个方向移动的片状基材的一部分供给成膜材料的成膜设备；以及移动对片状基材上的成膜材料的供给范围进行限制的片状掩膜件的掩膜件移动装置；以从成膜设备朝向片状基材的方向为上，掩膜件移动装置具有：相对于朝一个方向移动的片状基材的一部分，使位于其下侧的片状掩膜件的一部分平行移动的平行移动区域形成部；以及使片状掩膜件与片状基材同步移动的驱动部；平行移动区域形成部和驱动部设置在单一的支架上。
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