[发明专利]估计图案形成装置的变形和/或其位置的改变在审
申请号: | 201580019619.X | 申请日: | 2015-03-05 |
公开(公告)号: | CN106164778A | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 拜尔拉克·摩艾斯特;P·A·戴尔马斯特罗;约翰内斯·昂伍李;A·M·范德维伦;C·C·沃德 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 为确定图案形成装置的变形和/或图案形成装置的偏移位置提供了一种系统和方法。所述系统包括:第一感测子系统,所述第一感测子系统测量图案形成装置上的多个参考标记的各自的位置;和第二感测子系统,所述第二感测子系统测量图案形成装置的边缘相对于支撑件的位置。所述系统还包括控制器,所述控制器用以:基于图案形成装置上的标记的测量的各自的位置确定图案化部分的绝对位置和绝对位置的改变,基于测量的边缘位置确定图案形成装置的边缘的相对位置的改变,和估计在一时间段上图案形成装置相对于支撑件的位置的改变和图案形成装置的图案化部分的图案畸变的改变。 | ||
搜索关键词: | 估计 图案 形成 装置 变形 位置 改变 | ||
【主权项】:
一种确定图案形成装置的变形或图案形成装置的位置的偏移的方法,所述图案形成装置具有介于两个主表面之间的边缘和图案化部分,在操作中使用辐射束照射所述图案化部分,以在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束,所述方法包括:相对于参考坐标系统和参考计时系统测量多个参考标记的各自的位置,以确定图案化部分的绝对位置,其中多个参考标记分布在图案形成装置的外周部分中的图案化部分的周围;测量图案形成装置的边缘相对于为保持图案形成装置而设置的支撑件的位置;在图案形成装置的操作期之后,再次测量图案形成装置的边缘相对于支撑件的位置;和基于多个参考标记的被测量的各自位置、图案形成装置的边缘的测量的位置和图案形成装置的边缘的再次测量的位置,在图案形成装置的操作期上,将图案形成装置相对于支撑件的位置的改变和图案形成装置的图案化部分的图案畸变中的至少一个估计为图案形成装置的图案化部分的绝对位置的改变。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司,未经ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580019619.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于多个井口的分布式控制的系统和方法
- 下一篇:光检测装置以及固体摄像装置