[发明专利]多痕迹量化有效
| 申请号： | 201580020937.8 | 申请日： | 2015-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN106233138B | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | G·伊沃什夫 | 申请（专利权）人： | DH科技发展私人贸易有限公司 |
| 主分类号： | G01N30/86 | 分类号： | G01N30/86;G01N30/72 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 曹晓斐 |
| 地址： | 新加坡*** | 国省代码： | 新加坡;SG |
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| 摘要： | 本发明提供用于使用来自一或多个相关峰轮廓的信息计算峰轮廓的面积的系统及方法。使用分离装置随着时间推移从混合物分离出一或多个化合物。使用串联质谱仪在所述分离期间监测所述一或多个化合物的痕迹。使用处理器接收多个强度测量。使用所述处理器对于第一痕迹从所述多个强度测量检测所关注化合物的第一峰轮廓且对于一或多个其它痕迹从所述多个强度测量检测所述所关注化合物的一或多个相关峰轮廓。使用所述处理器基于所述一或多个相关峰轮廓计算所述第一峰轮廓的面积。 | ||
| 搜索关键词： | 痕迹 量化 | ||
【主权项】：
1.一种用于使用来自一或多个相关峰轮廓的信息计算峰轮廓的面积的设备，其包括：分离装置，其随着时间推移从混合物分离出一或多个化合物；串联质谱仪，其在所述分离期间监测所述一或多个化合物的痕迹，从而随着时间推移产生对所述一或多个化合物的多个强度测量；及处理器，其接收所述多个强度测量；对于第一痕迹从所述多个强度测量检测所关注化合物的第一峰轮廓且对于一或多个其它痕迹从所述多个强度测量检测所关注化合物的一或多个相关峰轮廓；及基于所述一或多个相关峰轮廓通过迭代地变更所述第一峰轮廓及所述一或多个相关峰轮廓中的每一者的形状的参数直到满足数学最优化准则为止来计算所述第一峰轮廓的面积。
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