[发明专利]新型钌化合物、其制备方法、包含其的膜沉积用前体组合物及利用前体组合物的膜沉积方法有效

专利信息
申请号: 201580028799.8 申请日: 2015-05-26
公开(公告)号: CN106459113B 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 韩元锡;金沼怜;高元勇 申请(专利权)人: UP化学株式会社
主分类号: C07F15/00 分类号: C07F15/00;C23C16/06;C23C16/44;C23C16/18
代理公司: 北京市中伦律师事务所 11410 代理人: 石宝忠
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及新型钌化合物、所述钌化合物的制备方法、包含所述钌化合物的用于沉积含钌膜的前体组合物以及利用所述前体组合物的含钌膜沉积方法。
搜索关键词: 前体组合物 钌化合物 含钌膜 膜沉积 沉积 制备
【主权项】:
1.一种钌化合物,所述钌化合物由下列化学式1表示:[化学式1]在所述化学式1中,R1至R4分别独立地是H或者选自由甲基、乙基、异丙基以及叔丁基构成的组中的一者,且n为0至3的整数。
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