[发明专利]具有带纹理的内表面的离子注入源在审

专利信息
申请号: 201580030952.0 申请日: 2015-05-29
公开(公告)号: CN106463318A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 奈尔·卡尔文;谢泽仁 申请(专利权)人: 艾克塞利斯科技公司
主分类号: H01J27/20 分类号: H01J27/20;H01J37/08;H01J37/317
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 郭雪茹
地址: 美国马萨*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于离子注入系统的离子源室(132)具有能够减少离子源室的内壁上的表面膜积层的分层的带纹理表面。由热膨胀产生的残余应力由于温度变化和膜与衬底(衬垫)之间的残余拉伸应力而错配。纹理特征改变宽度与厚度比,使得所述纹理特征在其达到的断裂拉伸应力时剥落。机器纹理表面增加在离子源室的表面上生长的膜的机械互锁,从而延迟分层并减小所获得的薄片的尺寸,从而降低薄片将偏压组件桥接到地面基准表面并相应地增加离子源(130)的寿命。
搜索关键词: 具有 纹理 表面 离子 注入
【主权项】:
一种具有离子源的离子注入系统,所述离子源包括:等离子体约束室,所述等离子体约束室具有内壁;阴极,所述阴极被支撑在所述等离子体约束室内;和反射极,所述反射极被支撑在所述等离子体约束室内;其中,所述等离子体约束室的一个或多个内表面携带有纹理图案,以防止所述内表面上的膜积层的分层。
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