[发明专利]多孔二氧化硅系粒子、其制造方法及配合其的化妆料有效
| 申请号： | 201580031859.1 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN106660812B | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 榎本直幸;渡边慧;三好康敬 | 申请（专利权）人： | 日挥触媒化成株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18;A61K8/25;A61Q1/00;A61Q1/02;A61Q17/04;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 | 代理人： | 王玉玲,李雪春 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供比表面积小且微孔容积大的多孔二氧化硅系粒子和其制造方法，以及提供配合具备此种特性的多孔二氧化硅系粒子作为触感改良材料的化妆料。本发明的多孔二氧化硅系粒子由二氧化硅系微粒的稀疏的填充物结构构成，平均粒径为0.5～25μm，利用BET法求得的比表面积为5～60m2/cm3，微孔容积为0.35～2.0ml/g。进而，多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布(X轴微孔径，Y轴以微孔径对微孔容积进行微分得到的值)中的最频微孔径(Dm)为100＜Dm＜4000nm。 | ||
| 搜索关键词： | 多孔 二氧化硅 粒子 制造 方法 配合 化妆 | ||
【主权项】：
一种多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，其是由二氧化硅系微粒构成的多孔二氧化硅系粒子，其平均粒径d1为0.5～25μm，利用BET法求得的比表面积为5～60m2/cm3，微孔容积为0.35～2.0ml/g，所述多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布中的最小微孔径D0为25～500nm的范围，最大微孔径D100为300～8000nm的范围，最大微孔径D100与最小微孔径D0之比D100/D0为4～320的范围，所述微孔径分布中，X轴为微孔径，Y轴为以微孔径对微孔容积进行微分得到的值。
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