[发明专利]光刻设备、对象定位系统和器件制造方法

摘要

本发明涉及提供一种用于光刻设备的温度调节系统。对象中的温度变化引起对象变形，这阻碍了对象被精确定位。温度调节系统使用对象中或上的设置有流体的导管系统以控制对象的温度，从而减小对象变形。以这种方式，可以更精确地定位对象的部分。然而，对象的加速和温度调节系统引发对象上或中的导管系统内的流体的压力变化，这也会引起对象变形。为了提供改进的导管系统，光刻设备还包括控制系统，其用于基于表示导管中的压力变化的测量值来控制对象的移动。

主权项

1.一种光刻设备，包括：对象，在至少一个方向上可移动；温度调节系统，用于控制所述对象的温度，其中所述温度调节系统包括导管系统，用于传送流体，其中所述导管系统的至少一部分被布置在所述对象上或所述对象中；测量系统，包括传感器以提供测量信号，所述测量信号表示所述导管系统内的至少一个位置处的所述流体的压力；预测器，被布置为将所述测量信号转换为表示所述对象的估计偏移；位置测量系统，被布置为提供表示所述对象的测量点的位置的位置信号；以及控制系统，基于所述对象的估计偏移、所述位置信号以及所述测量点与兴趣点之间的关系来控制所述对象在所述至少一个方向上的移动，以将所述兴趣点定位在期望位置。