[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201580038638.7 | 申请日： | 2015-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN106537256B | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | G·纳齐博格鲁;F·J·J·范鲍克斯台尔;T·P·H·沃马丹;J·S·C·维斯特尔拉肯;J·P·科洛斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光刻设备，包括：具有光轴(O)的投影系统(PS)；具有环境气体的外壳(EN)；及容纳于所述外壳中的物理部件(WT)，其中：所述光刻设备配置用于使所述物理部件沿预定方向(SC)且在垂直于所述光轴的平面内经历相对于所述外壳的移动；所述光刻设备配置用于使所述物理部件在移动期间维持相对于外壳的预定取向；所述移动引起了相对于部件的环境气体的流；所述物理部件具有取向成垂直于所述光轴的第一表面(1)；所述部件包括配置用于引导所述环境气体的流远离所述第一表面的流引导系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：/n具有光轴的投影系统；/n具有环境气体的外壳；和/n容纳于所述外壳中的物理部件，其中：/n所述光刻设备配置成使所述物理部件沿预定方向且在垂直于光轴的平面中经历相对于外壳的移动；/n所述光刻设备配置成使所述物理部件在移动期间维持相对于所述外壳的预定取向；/n所述移动引起了相对于所述物理部件的环境气体的流动；/n所述物理部件具有取向成垂直于所述光轴的第一表面；且/n所述物理部件包括配置用于引导所述环境气体的流动远离所述第一表面的流引导系统，所述流引导系统包括所述物理部件的前侧的成形部，所述前侧在所述移动期间用作所述物理部件的前部，且所述成形部包括所述前侧相对于与所述第一表面垂直的方向的倾斜部，使得所述物理部件在垂直于所述第一表面的方向上的厚度沿接近所述第一表面与所述前侧交会的位置的方向减小，/n所述前侧的表面的部分相对于光轴倾斜，所述前侧的剩余部分并未成形且所述前侧的剩余部分平行于光轴的方向，所述前侧的表面的倾斜的部分比所述前侧的剩余部分靠近所述第一表面。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580038638.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于LCD的彩色滤光片的蒽醌化合物
- 下一篇：浸没式光刻设备和器件制造方法
