[发明专利]自组装单分子膜的图案化装置、光照射装置、以及自组装单分子膜的图案化方法有效
| 申请号： | 201580038998.7 | 申请日： | 2015-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN106537553B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 大和田树志;铃木信二 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | H01J61/90 | 分类号： | H01J61/90;B01J19/12;H01L21/027 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 胡建新;朴勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 能够抑制向包含氧的气氛中照射了真空紫外光(VUV光)时的臭氧产生量。光照射装置(100)在包含氧的气氛中，经由形成有规定的图案的掩模(M)将包含VUV光的光照射到形成在工件(W)上的自组装单分子膜(SAM膜)，由此对上述SAM膜进行图案化处理。照射到SAM膜的包含VUV光的光为脉冲光，且发光的占空比为0.00001以上且0.01以下。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 紫外光 光源 装置 照射 以及 组装 分子 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种自组装单分子膜的图案化装置，对形成在工件上的自组装单分子膜照射包含真空紫外光的光，其特征在于，具备：掩模，与形成有上述自组装单分子膜的上述工件分离地配置，形成有规定的图案；光源，经由上述掩模向上述工件上照射上述包含真空紫外光的光；以及气体导入部，向上述掩模和上述工件之间导入包含氧的气体，形成包含氧的气体层，上述包含真空紫外光的光是脉冲光，并且是发光的占空比为0.00001以上且0.01以下的光。
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