[发明专利]氢氟酸蚀刻用树脂薄膜形成用组合物和氢氟酸蚀刻用树脂薄膜有效
| 申请号： | 201580041475.8 | 申请日： | 2015-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN106661172B | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 佐藤哲夫 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08F299/06 | 分类号： | C08F299/06;C03C15/00;C08F290/06;C09D109/00;C09K13/08;G03F7/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种氢氟酸蚀刻用树脂薄膜形成用组合物，其包含自由基聚合引发剂和具有(甲基)丙烯酰基的氢化聚丁二烯化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 氢氟酸 蚀刻 树脂 薄膜 形成 组合 | ||
【主权项】：
1.一种树脂薄膜在基板的氢氟酸蚀刻中的用途，其特征在于，所述树脂薄膜是使用树脂薄膜形成用组合物而制造的，所述组合物包含自由基聚合引发剂和具有(甲基)丙烯酰基的氢化聚丁二烯化合物。
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