[发明专利]用于半导体电路图案干燥的置换液体及干燥方法在审
| 申请号： | 201580042370.4 | 申请日： | 2015-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN106575089A | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 菊地秀明;松本刚德;伊藤未希 | 申请（专利权）人： | 杜邦三井氟化物有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 王伦伟,周齐宏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 问题本发明的目的是提供用于干燥半导体图案的置换溶液以及用于干燥半导体图案的方法，所述方法可防止在半导体制造方法中完成磨边后于洗涤方法后干燥时具有高纵横比的复杂半导体图案损坏。解决方法本发明提供了用于干燥半导体图案的置换溶液及方法，所述置换溶液包含氢氟醚和/或氢氟烃，在异丙醇中完全混溶，具有70℃或更高的沸点，并且在加热到低于所述沸点的温度时，在大气条件下具有10mN/m或更低的表面张力。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 电路 图案 干燥 置换 液体 方法 | ||
【主权项】：
一种用于干燥半导体图案的置换溶液，所述置换溶液对异丙醇进行置换，其包含氢氟醚和/或氢氟烃，并且所述置换溶液在异丙醇中完全混溶，具有70℃或更高的沸点，并且其中在加热到低于所述沸点的温度时，大气条件下的表面张力为10mN/m或更低。
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