[发明专利]利用脉冲二氧化碳激光器热处理硅酸盐层在审

专利信息
申请号: 201580045057.6 申请日: 2015-08-20
公开(公告)号: CN107074640A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: H·L·耶特尔 申请(专利权)人: 4JET精密技术有限两合公司
主分类号: C03C23/00 分类号: C03C23/00
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 郑勇
地址: 德国阿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 具体描述了一种包括材料层(102)和衬(104)材料夹层的材料层(102)的热处理的方法,其中衬(104)包括硅氧化合物且材料层(102)包括硅氧化合物,所述方法包括利用二氧化碳激光器(112)的脉冲激光束(114)照射材料层(102)。根据一实施例,执行照射以选择性地加热材料(102)和衬(104)的衬部分(116),其中衬部分(116)朝向(如接触面)材料层(102)。
搜索关键词: 利用 脉冲 二氧化碳 激光器 热处理 硅酸盐
【主权项】:
包括材料层(102)和衬(104)的材料夹层(100)的材料层(102)的热处理的方法,衬(104)包括硅氧化合物且材料层(102)包括硅氧化合物,所述方法包括:利用二氧化碳激光器(112)的脉冲激光束(114)照射材料层(102)。
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