[发明专利]高纯度铜电解精炼用添加剂及高纯度铜的制造方法有效
申请号: | 201580048272.1 | 申请日: | 2015-10-02 |
公开(公告)号: | CN106715761B | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 久保田贤治;樽谷圭荣;中矢清隆 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | C25C1/12 | 分类号: | C25C1/12 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的高纯度铜电解精炼用添加剂,添加于高纯度铜的电解精炼中的铜电解液,由非离子性表面活性剂构成,所述非离子性表面活性剂具有含芳香族环的疏水基和含聚氧化烯基的亲水基。 | ||
搜索关键词: | 纯度 电解 精炼 添加剂 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高纯度铜电解精炼用添加剂,添加于高纯度铜的电解精炼中的铜电解液,所述高纯度铜电解精炼用添加剂的特征在于,由非离子性表面活性剂构成,所述非离子性表面活性剂具有含芳香族环的疏水基和含聚氧化烯基的亲水基,所述非离子性表面活性剂由下述式[1]或式[2]表示,
所述式[1]及所述式[2]中,n表示加成摩尔数2~15。
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