[发明专利]用于监测辐射源的装置、辐射源、监测辐射源的方法、器件制造方法有效
申请号: | 201580048811.1 | 申请日: | 2015-08-11 |
公开(公告)号: | CN107077073B | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | E·W·伯加特;赵创新 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;吕世磊 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 用于监测用于光刻设备的辐射源中的蒸气或来自蒸气的沉积物的电容性测量。测量可以用于控制辐射源的操作。在一个特定布置中,来自多个电容器的测量用于在由蒸气引起的电容上的改变与由来自蒸气的沉积物引起的电容上的改变之间进行区分。 | ||
搜索关键词: | 用于 监测 辐射源 装置 方法 器件 制造 | ||
【主权项】:
1.一种用于监测用于光刻设备的辐射源的装置,所述辐射源被配置成通过从燃料生成等离子体来产生辐射,所述装置包括:一个或多个电容器,其中每个电容器包括至少两个导体,所述至少两个导体被安装成使得蒸气能够流过所述导体之间的间隙,其中所述间隙中的所述蒸气的浓度和由所述蒸气在所述间隙中形成的沉积物的量中的一项或两项对所述电容器的电容具有影响;和测量系统,被配置成:通过测量所述一个或多个电容器中的至少一个电容器的电容或依赖于所述电容的参数,针对所述一个或多个电容器中的至少一个电容器,输出在所述电容器的所述间隙中的所述蒸气的浓度的测量和在所述电容器的所述间隙中的所述沉积物的量的测量中的一项或两项。
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