[发明专利]微光刻投射曝光装置的光学配置

摘要

微光刻投射曝光装置(10)的光学配置，包含反射镜元件(M6)，其具有反射镜基板(34)及形成于反射镜基板(34)的表面上的反射区域。所述配置另外包含配置为在至少一个自由度移动反射镜元件(M6)的至少一个致动器(46)、以及作用在反射镜基板(34)的安装元件(42)。根据本发明，安装元件(42)至少约在平衡位置独自保持反射镜元件(M6)，使得至少一个致动器(46)在平衡位置至少约为不受力。

主权项

1.一种微光刻投射曝光装置(10)的光学配置，其中该光学配置(40)包含：(a)反射镜元件(M6)，具有反射镜基板(34)和形成于该反射镜基板(34)的表面上的反射区域；(b)至少一个致动器(46)，配置为以至少一个自由度移动该反射镜元件(M6)；以及(c)安装元件(42)，作用于该反射镜基板(34)，其中该安装元件(42)至少约在平衡位置独自保持该反射镜元件(M6)，使得该至少一个致动器(46)在该平衡位置至少约为不受力；其中在该反射镜元件(M6)的重心(S)作用的重力(G)的有效线(W_G)不与该反射区域(36)相交；以及其中该安装元件(42)施加安装力(F)于该反射镜元件(M6)上，且其中该安装力(F)的有效线(W_F)与该重力(G)的有效线(W_G)重合，或者在该基板内与该重力(G)的有效线(W_G)相距一距离(B)，该距离小于纵向范围(L)的0.1倍，该纵向范围为该反射镜元件(M6)在关于该重力(G)的有效线(W_G)的所有正交平面中的最大纵向范围。