[发明专利]用于氘气回收的方法和设备有效
申请号: | 201580052624.0 | 申请日: | 2015-07-10 |
公开(公告)号: | CN107408521B | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | M·里维拉;B·吴 | 申请(专利权)人: | 株式会社HPSP |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 秦振 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种用于从高压退火处理系统回收退火气体的新的方法、系统和设备。根据实施例,仅在使用稀有气体(例如氘气时),来自高压退火处理系统的排出气体才被引导到气体回收系统中。退火气体从高压退火处理系统中使用的其他气体中分离,随后被加压、过滤和纯化,之后被传递到大容量储存分配单元。在一个实施例中,回收的气体随后再次被提供给高压退火处理系统以对晶片进行退火。 | ||
搜索关键词: | 用于 回收 方法 设备 | ||
【主权项】:
一种从高压退火处理系统的排气中回收至少第一退火气体的方法,所述高压退火处理系统用于在半导体制造过程中对多个基底进行退火,所述方法包括:接收关于在高压退火处理系统中存在至少第一退火气体的信号;用第二气体清洗气体回收系统;将至少第一退火气体引导到气体回收系统,其中,至少第一退火气体和第二气体混合在一起以在气体回收系统中形成多种气体的混合物;在引导之后,在气体回收系统的气体分离单元中分离所述多种气体,其中,气体分离单元从所述多种气体大体分离至少第一退火气体,以产生分离的退火气体;将分离的退火气体运送至气体回收系统的热交换单元;在气体回收系统的气体监测系统中测试分离的退火气体以监测分离的退火气体的品质,其中,如果分离的退火气体中具有的至少第一退火气体的浓度低于预定阈值,则:将分离的退火气体运送回气体分离单元,以对分离的退火气体进行再处理,和再次测试分离的退火气体的品质;将分离的退火气体运送至气体回收系统的气体加压单元,其中,分离的退火气体被加压到高于大气压,以产生加压的第一退火气体;将加压的第一退火气体运送到纯化系统;和在高压退火处理系统中再次使用加压的第一退火气体之前,储存纯化的并加压的第一退火气体至少一段时间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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