[发明专利]光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法有效
| 申请号： | 201580052846.2 | 申请日： | 2015-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN106796317B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 福田真林;田中大直;西村涼 | 申请（专利权）人： | 捷客斯能源株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14;G02B1/18;G02B5/18;G02F1/13363;H01L51/50;H05B33/02 |
| 代理公司： | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王涛;汤在彦<国际申请>=PCT/JP2 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的光学相位差构件100具备：透明基体40，其具有凹凸图案80；间隙部90，其划分于上述凹凸图案80的凸部60之间；及密闭层20，其以连结上述凹凸图案80的凸部60且密闭上述间隙部90的方式设置于上述凹凸图案80上。光学相位差构件100即便使用粘着剂接合至其他构件或施加负载，亦不会损及相位差特性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 相位差 构件 具备 复合 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学相位差构件，其具备：/n透明基体，其是由基板及设置于该基板上且表面具有凹凸图案的凹凸构造层构成；/n被覆层，其被覆上述凹凸图案的凹部及凸部的表面；/n间隙部，其划分于由上述被覆层所被覆的上述凹凸图案的凸部之间；及/n密闭层，其以连结由上述被覆层所被覆的上述凹凸图案的凸部且密闭上述间隙部的方式设置于上述凹凸图案的上部，且/n上述被覆层的折射率大于上述凹凸图案的上述凸部的折射率，/n上述被覆层及上述密闭层是由相同材料形成，/n上述间隙部具有超过上述凹凸构造层的上述凸部的高度的高度。/n
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