[发明专利]用于旋转沉积腔室的顶灯模块

摘要

一种用于在基板处理腔室中使用的加热模块。加热模块具有外壳，外壳中具有加热源。加热模块可以是设置于基座组件上方的气体分布组件的一部分，以直接加热基座的顶表面和晶片。加热模块可具有恒定的或可变的功率输出。描述了使用加热模块处理晶片的处理腔室及方法。

主权项

1.一种处理腔室，包括：圆形气体分布组件，定位于所述处理腔室内，所述气体分布组件包括多个扇区，每一个扇区包括：在所述气体分布组件的前表面中的多个狭长气体端口、加热模块、或它们的组合，以使得所述气体分布组件包括至少一个扇区，在所述至少一个扇区中，加热模块被并入气体端口中以便气体经过所述加热模块，所述多个狭长气体端口至少从所述气体分布组件的内径区域延伸至外径区域，所述多个气体端口包括：反应气体端口，用以传送反应气体至所述处理腔室；净化气体端口，用以传送净化气体至所述处理腔室；及真空端口，用以从所述处理腔室排空气体，所述加热模块，包括加热源，所述加热源包括灯或电阻式加热器的一者或多者；基座组件，位于所述处理腔室内，用以在绕旋转轴的基本上圆形的路径中旋转至少一个基板，所述基座组件具有由内侧周边边缘和外侧周边边缘所界定的顶表面，所述基座组件定位于所述气体分布组件下方，使得所述基座组件的所述顶表面面对所述气体分布组件的所述前表面；以及加热器，位于所述基座组件之下，以加热所述基座组件，所述加热器包括灯或电阻式加热器的一者或多者，其中所述加热模块加热所述气体并且朝所述基座组件的所述顶表面发射辐射能，以抵消所述基座组件与所述气体分布组件之间温度的损失。