[发明专利]辅助特征的基于规则的部署有效
| 申请号： | 201580053694.8 | 申请日： | 2015-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN107111237B | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | D.-F.S.苏;库尔特·E·万普勒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 文中公开了几种方法，用在图案形成过程中，用于减小设计布局的一部分的Bossung曲线的倾斜、一个或多个图案位移误差、对比度损失、最佳聚焦偏移，所述图案形成过程用于使用光刻设备将所述部分成像到衬底上。所述方法包括：使用一个或多个规则，基于从以下各项构成的群组中选择的一个或多个参数，确定或调整一个或多个辅助特征的一个或多个特性：在所述部分中的一个或多个设计特征的一个或多个特性、所述图案形成过程的一个或多个特性、所述光刻设备的一个或多个特性、和/或选自前述各项的组合。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助 特征 基于 规则 部署 | ||
【主权项】：
一种计算机执行的用于改进图案形成过程的方法，其中所述图案形成过程用于使用光刻设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述方法包括：获得一个或多个规则，所述一个或多个规则被配置用于基于从以下各项构成的群组中选择的一个或多个参数来确定一个或多个辅助特征的一个或多个特性：在所述部分中的一个或多个设计特征的一个或多个特性、所述图案形成过程的一个或多个特性、所述光刻设备的一个或多个特性、和/或选自前述各项的组合；使用所述一个或多个规则，基于所述一个或多个设计特征的成对边缘之间的间隔，确定所述一个或多个辅助特征与所述成对边缘中的一个边缘之间的距离，使得所述一个或多个辅助特征相对于所述成对边缘是不对称的；以及将所述一个或多个辅助特征放置在图案形成装置上。
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