[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201580053983.8 | 申请日： | 2015-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN107111234B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 西田登喜雄;藤谷德昌;坂本力丸 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G59/22;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 马妮楠;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供一种用于形成抗蚀剂下层膜的组合物，其能够形成表示抗蚀剂图案的线宽的不均匀度的LWR比以往小的抗蚀剂图案。本发明的解决方法是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含聚合物、具有被叔丁氧基羰基保护了的氨基和未被保护的羧基的化合物或该化合物的水合物、以及溶剂，所述化合物或该化合物的水合物相对于该聚合物100质量份为0.1质量份～30质量份。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，包含：聚合物，具有被叔丁氧基羰基保护了的氨基和未被保护的羧基的化合物或该化合物的水合物，以及溶剂，所述化合物或该化合物的水合物相对于该聚合物100质量份为0.1质量份～30质量份。
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