[发明专利]高分子压电膜有效
| 申请号： | 201580059650.6 | 申请日： | 2015-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN107078208B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 佐藤圭祐;谷本一洋;太田浩二;尾崎胜敏;大西克己 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | H01L41/193 | 分类号： | H01L41/193;B29C55/04;H01L41/083;H01L41/27;H01L41/45 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;李国卿 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，对于所述高分子压电膜而言，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc为3.5～15.0，利用在线膜厚计测得的表示膜的宽度方向的位置与膜的厚度的关系的波形中，每1000mm膜宽的下述峰A的个数为20个以下。峰A：峰高为1.5μm以上，并且，峰斜率为0.000035以上。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子 压电 | ||
【主权项】：
高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，对于所述高分子压电膜而言，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc为3.5～15.0，利用在线膜厚计测得的表示膜的宽度方向的位置与膜的厚度的关系的波形中，每1000mm膜宽的下述峰A的个数为20个以下，峰A：峰高为1.5μm以上，并且，峰斜率为0.000035以上。
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