[发明专利]用于提供靶材料的设备和方法有效

专利信息
申请号: 201580059843.1 申请日: 2015-10-20
公开(公告)号: CN107077905B 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: C·拉加古鲁;J·M·阿戈提斯;石川哲也;P·M·鲍姆加特 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G21K5/04 分类号: G21K5/04
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 公开了一种EUV光源靶材料处理系统,其包括靶材料分配器和靶材料贮存器,其中通过使用感应加热将靶材料贮存器中的固体靶材料转换为液体形式的靶材料。
搜索关键词: 用于 提供 材料 设备 方法
【主权项】:
1.一种用于向系统提供靶材料的设备,所述系统用于通过在等离子体位置处从熔化的靶材料在照射腔室中产生等离子体来产生EUV辐射,所述设备包括:靶材料贮存器,其包括腔室,其用于接收固体形式的靶材料,使用部分真空以及不同于大气气体的气体中的至少一项来将所述腔室与大气至少部分地隔离以减少所述靶材料的污染,以及感应加热器,其与所述腔室的内部电磁连通,并且被布置为通过电磁感应来加热所述腔室中的靶材料以及将所述腔室中的固体形式的靶材料转换为液体形式的靶材料,其中当所述熔化的靶材料被照射时所述靶材料贮存器被配置为从所述照射腔室移除;以及靶材料分配器,其与所述靶材料贮存器流体连通,并且被布置为当所述靶材料贮存器耦合至所述靶材料分配器以用于再填充时从所述靶材料贮存器接收液体形式的靶材料,以及当从所述照射腔室移除所述靶材料贮存器时将所述液体形式的靶材料分配至所述等离子体位置。
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