[发明专利]金属氧化物薄膜，沉积金属氧化物薄膜的方法及包含金属氧化物薄膜的装置有效
| 申请号： | 201580060640.4 | 申请日： | 2015-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN107074662B | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 一杉太郎 | 申请（专利权）人： | 攀时奥地利公司 |
| 主分类号： | C04B35/495 | 分类号： | C04B35/495;C04B35/622;C09K9/00;C23C14/08;C23C14/34;G02F1/1523 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 樊晓焕;金小芳 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包含β‑MoO3的金属氧化物薄膜，该β‑MoO3包含组Re、Mn及Ru中的至少一种掺杂元素。此外，本发明涉及一种经由溅射镀制造该种金属氧化物薄膜的方法；及一种包括金属氧化物薄膜的薄膜装置，该金属氧化物薄膜包含β‑MoO3，该β‑MoO3包含组Re、Mn及Ru中的至少一种掺杂元素。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 氧化物 薄膜 沉积 方法 包含 装置 | ||
【主权项】：
一种包含β‑MoO3的金属氧化物薄膜，其特征在于该β‑MoO3包含组Re、Mn及Ru中的至少一种掺杂元素。
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